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13709-61-0

13709-61-0结构式
13709-61-0结构式
  • 常用中文名:tetrafluoroxenon
  • 常用英文名:tetrafluoroxenon
  • CAS号:13709-61-0
  • 分子式:F4Xe
  • 分子量:207.28700
  • 发布时间:2016-06-30 05:31:10
  • 更新时间:2024-01-10 23:30:34
  • 四氟化氙是稳定的化合物,可长期储存在镍容器中,是一种很强的氧化剂和氟化剂,与水剧烈反应生成Xe,O2,HF和XeO3


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英文名 tetrafluoroxenon
英文别名 XeF4
Xenon fluoride (XeF4)
xenon(IV)-fluoride
xenon(4+) tetrafluoride
EINECS 237-260-1
EINECS 237-251-2
Xenon tetrafluoride
分子式 F4Xe
分子量 207.28700
精确质量 207.89800
LogP 1.30000
计算化学

1.疏水参数计算参考值(XlogP):无

2.氢键供体数量:0

3.氢键受体数量:4

4.可旋转化学键数量:0

5.互变异构体数量:无

6.拓扑分子极性表面积0

7.重原子数量:5

8.表面电荷:0

9.复杂度:19.1

10.同位素原子数量:0

11.确定原子立构中心数量:0

12.不确定原子立构中心数量:0

13.确定化学键立构中心数量:0

14.不确定化学键立构中心数量:0

15.共价键单元数量:1

更多

1.性状:四氟化氙的分子构型为平面四边形,无色单斜晶系结晶。

2.密度(g/cm3):4.04。

3.熔点(℃):117.1。

危害码 (欧洲) O
风险声明 (欧洲) 8-25-26-34
安全声明 (欧洲) S17;S26;S28;S45;S36/S37/S39
危险品运输编码 UN 3087 5.1/PG 2

制备XeF4的常用方法是在镍反应器中加热氙和氟的混合气体,并使原料气中F2/Xe比为5∶1,在400℃的温度下反应1h,反应完成后使反应器迅速冷却,但产物中混有一些XeF6和XeF2

制法 以氙和二氟化二氧在低温低压下反应制备四氟化氙。

反应中所用不锈钢容器和真空管线预先用ClF3和XeF6进行钝化处理,然后抽真空一整天。O2F2直接由F2和O2合成,此光化学合成反应在装有蓝宝石窗的铜反应器中进行,混合气体中F2和O2的配比为1∶1。

在-196℃的温度下,将约0.4g氙和大过量的(10倍或更多)O2F2冷凝在一容积为35mL的圆柱形不锈钢反应器中,接着将反应器置于-155℃的冷浴(CF2Cl2/液氮)中,并慢慢升温,使温度在2~4h内达到-120℃。随后将反应器置于装有干冰的杜瓦瓶中,并控制温度为-78℃,保持在此温度下过夜,在此期间过剩的O2F2分解为O2和F2,挥发性的物质通过一冷却至-196℃的冷阱,其中O2和F2被除去,此冷阱中也会有一些白色的固体物质。将-196℃的杜瓦瓶换成-78℃的杜瓦瓶,继续抽真空1h,产物中混有的CF4,COF2和SiF4等杂质即被除去。剩余的固体物质为XeF4和XeF2的混合物。按照上面所述的同样方法,再用O2F2与XeF4和XeF2的混合物反应,最后氙几乎是定量地转化为XeF4