tetrafluoroxenon

制备XeF₄的常用方法是在镍反应器中加热氙和氟的混合气体，并使原料气中F₂/Xe比为5∶1，在400℃的温度下反应1h，反应完成后使反应器迅速冷却，但产物中混有一些XeF₆和XeF₂。

制法 以氙和二氟化二氧在低温低压下反应制备四氟化氙。

反应中所用不锈钢容器和真空管线预先用ClF₃和XeF₆进行钝化处理，然后抽真空一整天。O₂F₂直接由F₂和O₂合成，此光化学合成反应在装有蓝宝石窗的铜反应器中进行，混合气体中F₂和O₂的配比为1∶1。

在-196℃的温度下，将约0.4g氙和大过量的(10倍或更多)O₂F₂冷凝在一容积为35mL的圆柱形不锈钢反应器中，接着将反应器置于-155℃的冷浴(CF₂Cl₂/液氮)中，并慢慢升温，使温度在2～4h内达到-120℃。随后将反应器置于装有干冰的杜瓦瓶中，并控制温度为-78℃，保持在此温度下过夜，在此期间过剩的O₂F₂分解为O₂和F₂，挥发性的物质通过一冷却至-196℃的冷阱，其中O₂和F₂被除去，此冷阱中也会有一些白色的固体物质。将-196℃的杜瓦瓶换成-78℃的杜瓦瓶，继续抽真空1h，产物中混有的CF₄，COF₂和SiF₄等杂质即被除去。剩余的固体物质为XeF₄和XeF₂的混合物。按照上面所述的同样方法，再用O₂F₂与XeF₄和XeF₂的混合物反应，最后氙几乎是定量地转化为XeF₄。