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一氧化硅

一氧化硅用途

【用途一】
用作光学玻璃和半导体材料的制备
【用途二】
一氧化硅微粉末因极富有活性,可作为精细陶瓷合成原料,如氮化硅、碳化硅精细陶瓷粉末原料。
【用途三】
作为精细陶瓷原料具有重要价值。也可在真空中将其蒸发,涂在光学仪器用的金属反射镜上作保护膜。还可用于制造半导体材料。也用于光学玻璃。

一氧化硅名称

[ CAS 号 ]:
10097-28-6

[ 中文名 ]:
一氧化硅

[ 英文名 ]:
oxosilylene

[中文别名 ]:

[英文别名 ]:

一氧化硅物理化学性质

[ 密度 ]:
2.13 g/mL at 25 °C(lit.)

[ 沸点 ]:
1880°C

[ 熔点 ]:
1870 °C

[ 分子式 ]:
OSi

[ 分子量 ]:
44.085

[ 闪点 ]:
1880°C

[ 精确质量 ]:
43.971840

[ 外观性状 ]:
棕色或黑色大块或粉末

[ 折射率 ]:
1.9800

[ 储存条件 ]:
室温

[ 稳定性 ]:
Stable.

一氧化硅MSDS

一氧化硅安全信息

[ 个人防护装备 ]:
dust mask type N95 (US);Eyeshields;Gloves

[ 危害码 (欧洲) ]:
Xi:Irritant;

[ 风险声明 (欧洲) ]:
R36/37/38

[ 安全声明 (欧洲) ]:
S26-S36

[ 危险品运输编码 ]:
NONH for all modes of transport

[ WGK德国 ]:
3

一氧化硅合成路线

一氧化硅上下游产品

一氧化硅制备

1.将SiO2含量为99.5%的二氧化硅粉末和煤沥青粉末混合,C/SiO2混合摩尔比为2.0,混合物经减压加热处理,其温度为1600℃,压力为1.013 kPa,经还原反应生成SiO蒸气,通入氩气,将SiO蒸气凝结输送,制成0.1 μm以下的一氧化硅粉末。

图XIV-10 一氧化硅的制备装置

其反应式:

2.图一氧化硅的制备装置如图所示,在反应管里放好氧化铝烧结块,用由两部分组成的镍制容器进行反应。在容器一侧的前端,放好微粉状硅粉和二氧化硅按1∶1摩尔比的混合物。把容器放到电炉里,在133.322×10-4Pa、1250~1300℃下加热4h,在镍管的低温部分出现冷凝物。这个反应是可逆反应,如果进一步降低压力,提高温度,平衡则向一氧化硅侧移动。反应生成物很容易从镍管中取出来,分离也很容易。剩余的棕色原料是结晶形硅,黄色黏稠状生成物是无定形二氧化硅,在低温部冷凝的黑棕色玻璃状物质是一氧化硅。

一氧化硅文献

Asymmetric fluorination of alpha-aryl acetic acid derivatives with the catalytic system NiCl2-Binap/R3SiOTf/2,6-lutidine.

Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 46(28) , 5435-9, (2007)

How to make the ionic Si-O bond more covalent and the Si-O-Si linkage a better acceptor for hydrogen bonding.

Inorg. Chem. 48(10) , 4384-93, (2009)

Variation of a bond angle can tune the reactivity of a chemical compound. To exemplify this concept, the nature of the siloxane linkage (Si-O-Si), the most abundant chemical bond in the earth's crust,...

Silicon oxide nanoparticles reveal the origin of silicate grains in circumstellar environments.

Nano Lett. 6(6) , 1190-5, (2006)

A synergistic effort combining experiments in beams and first principles theoretical investigations is used to propose mechanisms that could lead to the formation of silicates and nanoparticles with s...


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